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Oberflächenmodifikation

UV- Ozon- Reinigung

Die UV- Ozon- Reinigung ist eine schonende Methode zur Entfernung organi-scher Kontaminationen von unterschiedlichsten Arten von Oberflächen sowie zur Verbesserung ihrer Benetzungseigenschaften, zu ihrer chemischen Aktivierung und zur Sterilisation. Anwendungsgebiete sind u.a.

  • Reinigung von Substraten für Oberflächenplasmonenresonanz, Quarzkristall-Mikrowaage, SERS, Objektträgern
  • Reinigung von AFM- Spitzen
  • Reinigung von Optiken
  • Hydrophilisierung zur Erlangung vollständiger und gleichmäßiger Benetzung
  • Aktivierung von Polymeroberflächen zum Polymer- Glas- Bonding
  • Polymerisation UV- vernetzender Kunststoffe
  • Sterilisation biologisch kontaminierter Substrate (z. B. von Petrischalen, Mikrotiterplatten, Objektträgern)

Vorteile gegenüber anderen Methoden zur Oberflächenreinigung:

  • kein Einsatz von Naßchemie
  • Anwendung unter Normaldruck, kein Evakuieren erforderlich
  • Reinigungszeiten typisch im Bereich weniger Minuten

Modelle

UVC-1014

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Layer- by- Layer- Beschichtung

(Coming soon ...)

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Dr. Michael Himmelhaus
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